produkty

Studovali jsme dusíkem dopovanou nanokarbonovou filmovou elektrodu s koncentrací dusíku nižší než 10,9 at% vytvořenou metodou nevyváženého magnetronového naprašování (UBM).Obsah sp(3) v dusíkem dopovaném UBM naprašovacím nanokarbonovém filmu (N-UBM film) se mírně zvyšuje se zvyšující se koncentrací dusíku.Vazba podobná grafitu s obsahem dusíku klesá a vazba podobná pyridinu se zvyšuje se zvyšující se koncentrací dusíku.Fólie N-UBM má velmi hladký povrch s průměrnou drsností 0,1 až 0,3 nm, která je téměř nezávislá na koncentraci dusíku.N-UBM filmová elektroda vykazuje širší potenciálové okno (4,1 V) než čistá UBM filmová elektroda (3,9 V) díky jejímu mírnému zvýšení obsahu sp(3).Elektrokatalytická aktivita se zvyšovala se zvyšující se koncentrací dusíku, což naznačuje, že elektroaktivita je maximální, když je koncentrace dusíku kolem 10,9 at%, což je potvrzeno maximální separací Fe(CN)6(4-).Redukční potenciál peroxidu vodíku (H2O2) na filmové elektrodě N-UBM se posunul asi o 0,1 V a špičkový proud H2O2 se zvýšil asi 4krát.